制备纳米光栅的装置和方法

专利权的终止

摘要

一种制备纳米光栅的装置和方法，本发明的基本构思是：利用KDP晶体将一束激光倍频，形成偏振方向互相垂直两束激光。将这两束激光共光路聚焦到材料表面，在材料上形成周期纳米光栅。通过调节倍频光的能量，可以改变光栅结构的方向。本发明制备纳米光栅的装置，包括一飞秒激光器，并由沿该飞秒激光器输出的飞秒激光脉冲的光轴上依次是格兰棱镜、KDP晶体和聚焦透镜构成，所述的格兰棱镜和KDP晶体具有绕光轴旋转的调节机构。本发明的装置结构不复杂，制备方法简便，获得的光栅刻线规则，光栅面积较大，光栅方向可控。

基本信息

专利标题：

制备纳米光栅的装置和方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1758075A

申请号：

CN200510110054.4

公开（公告）日：

2006-04-12

申请日：

2005-11-04

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

李成斌贾天卿陈洪新孙海轶徐至展

申请人：

中国科学院上海光学精密机械研究所

申请人地址：

201800上海市800－211邮政信箱

代理机构：

上海新天专利代理有限公司

代理人：

张泽纯

优先权：

CN200510110054.4

主分类号：

G02B5/18

IPC分类号：

G02B5/18