一种用于斜齿光栅纳米压印的装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于斜齿光栅纳米压印的装置。模版固定盘位于基板托盘上方，导轨水平布置且固定在上伺服电机下端的输出端上，模版固定盘顶面嵌装于导轨并可沿导轨移动，由上伺服电机带动导轨和模版固定盘沿靠近/远离基板托盘的方向移动；基板托盘底面固定在下伺服电机上端的输出端上，由下伺服电机带动基板托盘沿靠近/远离模版固定盘的方向移动；模版固定盘的两侧设有金属臂，两个金属臂一端分别连接到模版固定盘，另一端连接到压印腔体上。本实用新型能避免脱模过程对光栅结构的损坏，压印时压印胶的填充更完整，顺利脱模阻挡小，减少缺陷。
基本信息
专利标题 ：
一种用于斜齿光栅纳米压印的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021683435.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-13
授权号 ：
CN212781665U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
张琬皎刘寅
申请人 ：
杭州欧光芯科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市大江东产业集聚区义蓬街道青六中路888号义蓬科创园1101室
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
林超
优先权 ：
CN202021683435.8
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 G02B5/18
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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