加速度计结构及其制备方法、加速度测量方法

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摘要

本发明提供一种加速度计结构及其制备方法、基于所述加速度计结构的加速度的测量方法，其中，所述加速度计结构包括：具有凹槽结构的基底，悬浮在凹槽结构上的测试质量块、纳米系链及纳米光子晶体测量单元，纳米光子晶体测量单元中形成有光子晶体谐振腔，以基于光子晶体谐振腔的共振频率表征测试质量块受到的加速度。本发明提供一种基于光弹性的光‑微机械加速度计结构，使用基于光子晶体纳米腔(光子晶体谐振腔)的腔谐振张力传感器来测量施加于芯片的加速度对光子晶体纳米腔的张力，质量块受加速度产生位移并由位移产生张力，张力集中在光子晶体纳米腔，测量精准，分辨率效果好，且基于光子晶体纳米腔还可以增加光弹性光‑机械耦合。

基本信息

专利标题：

加速度计结构及其制备方法、加速度测量方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113156162A

申请号：

CN202110437872.4

公开（公告）日：

2021-07-23

申请日：

2021-04-22

授权号：

CN113156162B

授权日：

2022-06-10

发明人：

任恒江罗杰

申请人：

深圳市共轭科技有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区西乡街道凤凰岗社区凤凰岗第三工业区B8栋C312

代理机构：

上海光华专利事务所(普通合伙)

代理人：

佟婷婷

优先权：

CN202110437872.4

主分类号：

G01P15/03

IPC分类号：

G01P15/03