传送盒清洗装置
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种传送盒清洗装置，包括：分离部，其将通过入口移入的传送盒分离；第一移送部，其移送在上述分离部分离的传送盒；清洗室，其清洗及干燥通过上述第一移送部分离并移送的传送盒；真空室，其对在上述清洗室中干燥的传送盒进行真空处理；第二移送部，其将在上述清洗室干燥的传送盒移送至上述真空室；组装部，其组装上述真空处理的上述传送盒，其中，上述清洗室包括：清洁室，其被配置为多个，用于容纳并清洗通过上述第一移送部移送的上述传送盒；及干燥室，其干燥从上述清洁室中移送的上述传送盒，上述清洁室和上述干燥室在空间上被分离。
基本信息
专利标题 ：
传送盒清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114512419A
申请号 ：
CN202110539352.4
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2021-05-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
朴永秀许东根李基万
申请人 ：
系统科技公司
申请人地址 ：
韩国京畿道安城市
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
吕琳
优先权 ：
CN202110539352.4
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/673 H01L21/02 B08B3/02 B08B3/04
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20210513
申请日 : 20210513
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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