传送盒清洗工艺
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种传送盒清洗工艺，包括：分离步骤，将移入的传送盒分离为内传送盒和外传送盒；清洁步骤，在清洁室内部对分离的传送盒进行清洗；干燥步骤，在干燥室内部对通过上述清洁步骤的上述传送盒进行干燥；真空处理步骤，对通过上述干燥步骤的上述传送盒进行真空处理；组装步骤，对通过上述真空处理步骤的上述内传送盒和上述外传送盒进行组装，上述清洁步骤和上述干燥步骤分开进行。
基本信息
专利标题 ：
传送盒清洗工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114512393A
申请号 ：
CN202110521366.3
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2021-05-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
朴永秀许东根李基万
申请人 ：
系统科技公司
申请人地址 ：
韩国京畿道安城市
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
吕琳
优先权 ：
CN202110521366.3
主分类号 ：
H01L21/02
IPC分类号 ：
H01L21/02 H01L21/67 H01L21/673 B08B3/02 B08B3/04
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/02
申请日 : 20210513
申请日 : 20210513
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
