纳米激光直写物镜
授权
摘要
本发明涉及镜头领域，特别为一种纳米激光直写物镜。包括沿光线入射方向依次设置的负光焦度的第一群组、正光焦度的第二群组、光阑、以及正光焦度的第三群组；其中各群组的焦距满足以下关系：0.65＜|fA/fB|＜3.5；4.0＜|fB/fC|＜15.0；‑120mm＜fA＜‑40mm；40mm＜fB＜80mm；5mm＜fC＜15mm，其中：fA为第一群组的焦距，fB为第二群组的焦距，fC为第三群组的焦距。本发明提供一种数值孔径NA至1.3左右且高分辨率的纳米激光直写物镜，该物镜为无限远复消色差类型系统，且无需使用超半球镜片，便于物镜的加工，能降低物镜的制造成本。
基本信息
专利标题 ：
纳米激光直写物镜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113448179A
申请号 ：
CN202110750181.X
公开（公告）日 ：
2021-09-28
申请日 ：
2021-07-02
授权号 ：
CN113448179B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
黄木旺刘旭匡翠方林法官
申请人 ：
浙江大学;福建福特科光电股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
代理机构 ：
福州市众韬专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈智雄
优先权 ：
CN202110750181.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B13/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2021-10-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20210702
申请日 : 20210702
2021-09-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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