一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法

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摘要

本发明公开了一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法，包括以下步骤：配置电解液进行哈林槽打片，每次1.5L，根据多种添加剂体系要求，添加相应的添加剂，电解液参数按照要求进行，电解液浓度为1‑20ppm；哈林槽加液1.5L，添加剂按照浓度添加，充分搅拌均匀，电流26.5A，通电50s，控制槽压4.5‑5.5V，电镀结束后‑用纯水冲洗，然后用吹风机吹干；将铜箔从阴极板剥下，检测光泽度、抗拉强度，添加剂实验每批次实验结束后换液。本发明采用上述一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法，同时提升了铜箔的常温抗拉强度及延伸率，工艺简单，6μm高抗铜箔外观无差异。

基本信息

专利标题：

一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113638014A

申请号：

CN202110762817.2

公开（公告）日：

2021-11-12

申请日：

2021-07-06

授权号：

CN113638014B

授权日：

2022-05-24

发明人：

曹露黄国平江明张中明李瑞强

申请人：

铜陵市华创新材料有限公司

申请人地址：

安徽省铜陵市经济技术开发区翠湖四路西段3699号

代理机构：

北京圣州专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

刘岩

优先权：

CN202110762817.2

主分类号：

C25D1/04

IPC分类号：

C25D1/04 C25D3/38