无接着剂型双面铜箔基板
专利权的终止
摘要

本实用新型是一种无接着剂型双面铜箔基板,包括一热塑性聚亚酰胺层(TPI)、二热固性聚亚酰胺层(PI)分设于该热塑性聚亚酰胺层(TPI)上下表面,以及二铜箔层(Cu)分别设于该聚亚酰胺层(PI)外侧面,以此利用热膨胀系数(CTE)居中的二热固性聚亚酰胺层(PI)分设于外侧铜箔层(Cu)与该热塑性聚亚酰胺层(TPI)之间,由此,缩减相邻材料层间的热膨胀系数(CTE)差异,并于表面黏着电子组件时的高温操作下,令电子组件搭载于具玻璃转移温度(Tg)较高的热固性聚亚酰胺层(PI)及铜箔界面上,而不会因为搭载在Tg较低的聚亚酰胺层(TPI)铜箔界面上,因高温发生熔融或爆板的分层现象。

基本信息
专利标题 :
无接着剂型双面铜箔基板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720138928.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-08-20
授权号 :
CN201114989Y
授权日 :
2008-09-10
发明人 :
刘明俊黄正欣王富民陈建宏李再兴
申请人 :
台虹科技股份有限公司
申请人地址 :
台湾省高雄市
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
周长兴
优先权 :
CN200720138928.1
主分类号 :
H05K1/02
IPC分类号 :
H05K1/02  H05K3/38  
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法律状态
2017-09-26 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101749620503
IPC(主分类) : H05K 1/02
专利号 : ZL2007201389281
申请日 : 20070820
授权公告日 : 20080910
终止日期 : 无
2008-09-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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