一种基于投影重构的单像素成像方法
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摘要

本发明涉及一种基于投影重构的单像素成像方法,可以实现全局照明干扰下场景快速三维重构。首先,通过投射和拍摄多频粗定位的傅里叶切片图案模式,对像素阵列上每个像素的观测区域进行粗定位;然后,利用投射器向场景投射细定位的傅里叶切片图案模式,采用相机拍摄得到对应的图像;再次,对相机图像上每个像素执行投影切片重构算法,获得每个像素多方向的切片投影图像;最后,根据投影立体匹配算法获得像素阵列上每个像素所对应的投射器坐标,获得基于投影重构的单像素成像结果图。相较于传统的三维测量方法,由于该方法对投射器全部分辨率进行解析,因此特别适用于全局照明干扰下三维立体匹配点的鲁棒获取。同时,相较于传统的单像素成像方法,由于仅采用了多方向一维投影切片,该方法又具有非常高的探测和解算效率。

基本信息
专利标题 :
一种基于投影重构的单像素成像方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113709442A
申请号 :
CN202111000918.2
公开(公告)日 :
2021-11-26
申请日 :
2021-08-30
授权号 :
CN113709442B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
姜宏志李宇曦赵慧洁李旭东
申请人 :
北京航空航天大学
申请人地址 :
北京市海淀区学院路37号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202111000918.2
主分类号 :
H04N13/363
IPC分类号 :
H04N13/363  H04N13/125  
法律状态
2022-05-31 :
授权
2021-12-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04N 13/363
申请日 : 20210830
2021-11-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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