高折射率材料
实质审查的生效
摘要
公开了一种配制品，其包含共聚物和一种或多种溶剂，所述共聚物包含一种或多种高折射率第一单体以及含有反应性侧链的一种或多种第二单体。所述配制品可以任选地含有额外的组分。还公开了用于由所述配制品形成光学薄膜的方法，以及含有所述光学薄膜的光学装置。
基本信息
专利标题 ：
高折射率材料
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114316137A
申请号 ：
CN202111179292.6
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-10-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·帕特森王德岩B·L·塞克马恩C·D·吉尔莫尹喜在A·D·查韦斯C·穆尔泽M·H·小霍华德J·S·梅郑周永李垠泳
申请人 ：
罗门哈斯电子材料有限责任公司;杜邦电子公司;罗门哈斯电子材料韩国有限公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
徐鑫
优先权 ：
CN202111179292.6
主分类号 ：
C08F226/12
IPC分类号 ：
C08F226/12 C08F220/18 C08F212/32 C08F220/20 C08F220/28 C08F220/06 C08F212/14 C08F126/12 C08L39/04 C08J5/18 G02B1/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F226/00
具有1个或更多的不饱和脂族基化合物的共聚物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且至少有1个是以与氮连接的单键或双键，或以含氮杂环为终端
C08F226/06
以1个含氮的杂环
C08F226/12
N-乙烯基-咔唑
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08F 226/12
申请日 : 20211008
申请日 : 20211008
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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