基板边缘清洁和基板承载头间隙清洁的设备和方法
公开
摘要
本公开内容总体涉及基板边缘清洁和基板承载头间隙清洁的设备和方法。本公开内容涉及装载杯，所述装载杯包括环形基板站，所述环形基板站被配置为接收基板。环形基板站包围位于装载杯内的喷雾器。喷雾器包括一组激励流体喷嘴，所述一组激励流体喷嘴邻近在环形基板站与喷雾器之间的界面设置在喷雾器的上表面上。一组激励流体喷嘴被配置为相对于上表面以向上角度释放激励流体。
基本信息
专利标题 ：
基板边缘清洁和基板承载头间隙清洁的设备和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114434320A
申请号 ：
CN202111293339.1
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2021-11-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
鲁伟J·张唐建设B·J·布朗
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
侯颖媖
优先权 ：
CN202111293339.1
主分类号 ：
B24B37/30
IPC分类号 ：
B24B37/30 B24B37/32 B24B37/34 B24B55/06 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/27
工件载体
B24B37/30
用于平面的单侧研磨
法律状态
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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