表面分析装置
公开
摘要
本发明提供一种表面分析装置,能够避免在自动地对散布图上的点进行聚类时检测到伪簇,从而提高聚类的精度。本发明所涉及的表面分析装置的一个方式具备:测定部(1‑2、4‑8),其在试样(3)上的多个位置处分别获取反映了作为分析对象的多个成分或元素的量的信号;散布图制作部(92),其基于由测定部得到的测定结果来制作二元散布图;聚类分析部(94),其使用基于密度的聚类分析的方法来对二元散布图中的点进行聚类;以及参数调整部(93),其利用二元散布图中的某一方的成分或元素的信号值的值分布信息,来调整距离阈值,该距离阈值是在基于密度的聚类分析中应设定的参数之一。
基本信息
专利标题 :
表面分析装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114609171A
申请号 :
CN202111337109.0
公开(公告)日 :
2022-06-10
申请日 :
2021-11-12
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
大越晓石川丈宽
申请人 :
株式会社岛津制作所
申请人地址 :
日本京都府
代理机构 :
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
刘新宇
优先权 :
CN202111337109.0
主分类号 :
G01N23/2252
IPC分类号 :
G01N23/2252 G01N23/2251 G01N23/223 G06K9/62 G06V10/762
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/225
利用电子或离子微探针
G01N23/2251
使用入射电子束,例如扫描电子显微镜
G01N23/2252
测量受激X射线,例如电子探针微量分析
法律状态
2022-06-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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