电子放射源的动作控制方法、电子射束描绘方法和电子射束描绘...
实质审查的生效
摘要
本发明的一个方式的电子放射源的动作控制方法的特征在于，具备如下步骤：一边改变电子射束的发射电流，一边取得被电子射束照射的试样面位置处的试样面电流与发射电流之间的特性；根据特性计算特性中的规定范围内的、相对于发射电流的试样面电流除以发射电流而得到的第一斜率值；计算电子射束已被调整的状态的试样面电流除以发射电流而得到的第二斜率值；以使电子射束已被调整的状态下的第二斜率值在规定范围的第一斜率值的范围内的方式对阴极温度进行调整。
基本信息
专利标题 ：
电子放射源的动作控制方法、电子射束描绘方法和电子射束描绘装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114518697A
申请号 ：
CN202111375342.8
公开（公告）日 ：
2022-05-20
申请日 ：
2021-11-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
宫本房雄山田拓
申请人 ：
纽富来科技股份有限公司
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
刘英华
优先权 ：
CN202111375342.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20211119
申请日 : 20211119
2022-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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