多带电粒子射束照射装置及多带电粒子射束照射方法
实质审查的生效
摘要

本发明的一个方式提供一种能够抑制运转率的恶化并且适当地更换消隐孔径阵列基板的多带电粒子射束照射装置以及多带电粒子射束照射方法。多带电粒子射束照射装置具备:成形孔径阵列基板,通过多个第一开口使带电粒子射束通过而形成多射束;多个消隐孔径阵列基板,设置有使对应的射束通过的多个第二开口,在各第二开口配置有消隐器;可动工作台,在与沿着光轴的第一方向正交的第二方向上隔开间隔地搭载多个消隐孔径阵列基板,在第二方向上移动而使多个消隐孔径阵列基板中的1个位于光轴上;以及对准机构,进行光轴上的消隐孔径阵列基板与成形孔径阵列基板的对准调整。

基本信息
专利标题 :
多带电粒子射束照射装置及多带电粒子射束照射方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114326317A
申请号 :
CN202110717635.3
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-06-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
冈泽光弘
申请人 :
纽富来科技股份有限公司
申请人地址 :
日本神奈川县
代理机构 :
永新专利商标代理有限公司
代理人 :
刘英华
优先权 :
CN202110717635.3
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20210628
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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