描绘方法及装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种描绘方法及装置，当在大尺寸的1块基板上描绘多个小尺寸的布线图形时，能够不受基板变形的影响地对各个布线图形进行高精度的位置对正。在表示预先设定的多个基准标记位置信息的基板(12)上的位置上预先设置多个基准标记(12a)，通过检测该基准标记(12a)取得表示该基准标记的位置的检测位置信息，根据共通的基准标记(12a)的检测位置信息和基准标记位置信息的偏移，单独修正表示配置在基板(12)的规定位置上的2个布线图形(P1、P2)的各自位置的描绘位置信息(12c)，基于该修正的描绘位置信息(12c)配置布线图形(P1、P2)，在基板(12)上描绘。
基本信息
专利标题 ：
描绘方法及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1766738A
申请号 ：
CN200510108800.6
公开（公告）日 ：
2006-05-03
申请日 ：
2005-09-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
平岛卓哉藤井武
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱丹
优先权 ：
CN200510108800.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-09-09 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-11-07 ：
实质审查的生效
2006-05-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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