描绘装置
授权
摘要
作为于基板(P)上一维地扫描光束(LBn)的光束扫描装置的扫描单元(Un)，具备于一方向具有聚焦力的第1柱面透镜(CY1)、使透过第1柱面透镜(CY1)的光束(LBn)偏向以便进行一维扫描的多面镜(PM)、将以远心的状态偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的fθ透镜系统(FT)、及入射透过fθ透镜系统(FT)的光束(LBn)且于一方向具有聚焦力的第2柱面透镜(CY2)，第1柱面透镜(CY1)与第2柱面透镜(CY2)于彼此正交的方向具有聚焦力，该扫描单元(Un)进而具备设置于第1柱面透镜(CY1)与多面镜(PM)之间的透镜系统(G10)。
基本信息
专利标题 ：
描绘装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110031964A
申请号 ：
CN201910171295.1
公开（公告）日 ：
2019-07-19
申请日 ：
2017-04-25
授权号 ：
CN110031964B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
加藤正纪中山修一
申请人 ：
株式会社尼康
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩嫚嫚
优先权 ：
CN201910171295.1
主分类号 ：
G02B26/08
IPC分类号 ：
G02B26/08 G02B26/10 G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B26/00
利用可移动的或可变形的光学元件控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的光学器件或装置，例如，开关、选通或调制
G02B26/08
控制光的方向
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2019-08-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 26/08
申请日 : 20170425
申请日 : 20170425
2019-07-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN110031964A.PDF
PDF下载
