光束扫描装置及图案描绘装置
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摘要

本发明的描绘单元(Un)具备具有折射能力的fθ透镜系统(FT),且以与多面镜(PM)的反射面(RP)的角度变化相应的扫描速度使点光(SP)进行扫描,该fθ透镜系统(FT)使经角度可变的多面镜(PM)的反射面(RP)偏向的加工用光束(LBn)入射,并使加工用光束(LBn)于基板P聚光为点光(SP)。描绘单元(Un)具备:光电转换元件(DTo),其接收朝向多面镜(PM)的反射面(RP)投射的原点检测用激光光束(Bga)的反射光束(Bgb),并输出表示多面镜(PM)的反射面(RP)成为既定角度的时间点的原点信号(SZn);及透镜系统(GLb),其被设定为较fθ透镜系统(FT)的折射能力低的折射能力,且使反射光束(Bgb)于光电转换元件(DTo)聚光为点光(SPr)。

基本信息
专利标题 :
光束扫描装置及图案描绘装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109804314A
申请号 :
CN201780060673.8
公开(公告)日 :
2019-05-24
申请日 :
2017-09-04
授权号 :
CN109804314B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
加藤正纪鬼头义昭
申请人 :
株式会社尼康
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 :
王天尧
优先权 :
CN201780060673.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G02B26/08  G02B26/10  G02B26/12  G03F7/24  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-01 :
授权
2019-06-18 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20170904
2019-05-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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