描绘装置

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明提供一种描绘装置，能够连续地对长条的挠性记录介质进行曝光处理，而缩短等待时间，在短时间内进行多个曝光处理，能够提高生产性。至少在2个辊(30、32)之间架设连续向一定的输送方向输送的长条的挠性记录介质(28)。然后，在通过用张力设定机构(68)保持架设在相邻的2个辊(30、32)之间的部分的一定的张力而平面地拉架的长条的挠性记录介质的部分上，用描绘单元(48)，按二维图形进行描绘处理。由此，由于通常能够连接进行曝光处理，所以能够提高生产性。

基本信息

专利标题：

描绘装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1756292A

申请号：

CN200510106991.2

公开（公告）日：

2006-04-05

申请日：

2005-09-29

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

福井隆史

申请人：

富士胶片株式会社

申请人地址：

日本神奈川县

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

朱丹

优先权：

CN200510106991.2

主分类号：

H04N1/04

IPC分类号：

H04N1/04