描绘处理装置及描绘处理方法
授权
摘要
本发明提供一种基于描绘模式及描绘命令生成图像数据的描绘处理装置。其具备：根据所指定的缩小率来变换描绘命令中的坐标的坐标变换机构；在由于所述坐标的变换而使应该描绘的线的宽度消失的情况下，补偿所述线的宽度的补偿机构。
基本信息
专利标题 ：
描绘处理装置及描绘处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1787596A
申请号 ：
CN200510125733.9
公开（公告）日 ：
2006-06-14
申请日 ：
2005-12-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
渡濑慎一郎
申请人 ：
京瓷美达株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐谦
优先权 ：
CN200510125733.9
主分类号 ：
H04N1/393
IPC分类号 ：
H04N1/393
相关图片
法律状态
2008-04-30 ：
授权
2006-08-09 ：
实质审查的生效
2006-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN100385907C.PDF
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