变形校正处理装置、描绘方法及存储介质
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种变形校正处理装置，其能够缩短从搬入基板经过图像数据的变形校正之后开始描绘为止的待机时间。变形校正处理装置根据描绘对象物的变形量对定义要形成于描绘区域中的图案的原图像数据进行变形校正，从而生成校正完毕的图像数据并将其发送至描绘处理部。此时，每次针对描绘区域的一部分区域对原图像数据进行了变形校正时，将校正完毕的描绘用部分图像数据发送至描绘处理部。
基本信息
专利标题 ：
变形校正处理装置、描绘方法及存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114494029A
申请号 ：
CN202111182456.0
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-10-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
圷隆史
申请人 ：
住友重机械工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
郝传鑫
优先权 ：
CN202111182456.0
主分类号 ：
G06T5/00
IPC分类号 ：
G06T5/00 G06F3/12
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T5/00
图像的增强或复原
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 5/00
申请日 : 20211011
申请日 : 20211011
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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