可解释的分子生成模型
公开
摘要
可以提供一种用于训练具有可解释的隐空间的分子生成模型以标识来自从具有目标性质的输入分子生成的隐空间的生成的分子生成的子结构的方法。可以利用具有相关联的性质和已知子结构的分子结构的数据集来训练分子生成模型。该模型可以生成隐空间，在该隐空间中，子结构预测器模型可以被进一步训练以从具有目标性质和标识的子结构的输入分子预测具有目标性质的分子的子结构的数量。
基本信息
专利标题 ：
可解释的分子生成模型
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114627983A
申请号 ：
CN202111430254.3
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2021-11-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
S.塔克达
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约阿芒克
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陈金林
优先权 ：
CN202111430254.3
主分类号 ：
G16C20/70
IPC分类号 ：
G16C20/70 G16C20/50 G06N3/08 G06N3/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G16
特别适用于特定应用领域的信息通信技术
G16C
计算化学;化学信息学; 计算材料科学
G16C20/70
•机器学习，数据挖掘或化学统计学
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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