本发明公开了一种稳定性蚀刻氮化钛的蚀刻液，该蚀刻液包括氧化剂、硫酸、螯合剂、腐蚀抑制剂和表面活性剂，在搅拌的条件下对氮化钛等薄膜进行蚀刻。本发明所述蚀刻液能够快速去除氮化钛，同时对金属钨、铜、钴等及其化合物、低k电介质材料具有较低的蚀刻速率，且蚀刻速率不随蚀刻时间的变化波动。蚀刻液中的pH调节剂山梨酸等稳定蚀刻液的pH，避免由于氮化钛与钨在蚀刻过程中释放的羟基造成蚀刻液pH的波动，影响氮化钛与金属钨的蚀刻速率及稳定性；表面活性剂聚丙烯酰胺改变蚀刻液粘度、表面张力等，腐蚀抑制剂对金属钨形成保护，在蚀刻时进行搅拌，可增加反应物在晶圆表面与溶液间的物质交换，确保氮化钛与金属钨等薄膜的蚀刻选择比。