氮化硅膜蚀刻组合物
授权
摘要
本发明涉及一种氮化硅膜蚀刻组合物，更具体而言，通过在蚀刻组合物中包含两种彼此不同的硅系化合物，相比于氧化硅膜能够选择性地蚀刻氮化硅膜，其蚀刻选择比显著，在用于蚀刻工序和半导体制造工序时，可以在抑制发生析出物且减少存在于周围的包含氧化硅膜的其他膜的异常生长方面提供卓越的效果。
基本信息
专利标题 ：
氮化硅膜蚀刻组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110628435A
申请号 ：
CN201910520688.9
公开（公告）日 ：
2019-12-31
申请日 ：
2019-06-17
授权号 ：
CN110628435B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
金东铉朴贤宇李斗元曺长佑李明镐宋明根
申请人 ：
易案爱富科技有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京市中伦律师事务所
代理人 ：
杨黎峰
优先权 ：
CN201910520688.9
主分类号 ：
C09K13/06
IPC分类号 ：
C09K13/06 H01L21/311
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K13/00
蚀刻，表面光亮或浸蚀组合物
C09K13/04
含一种无机酸
C09K13/06
带有机材料的
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2021-02-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09K 13/06
申请日 : 20190617
申请日 : 20190617
2019-12-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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