单层膜或层叠膜的蚀刻组合物或者使用所述组合物的蚀刻方法
授权
摘要
本发明的课题是提供用于蚀刻金属单层膜或金属层叠膜的蚀刻组合物，该组合物实现比以往更好的蚀刻速率，容易控制侧面蚀刻、圆锥角、剖面形状、图案形状，且在保持性能稳定性的同时具有更长的溶液寿命。一种蚀刻组合物，它是用于蚀刻由选自铜、钛、钼和镍的金属或它们的氮化物形成的单层膜，由含有选自铜、钛、钼和镍的1种或2种以上的合金形成的单层膜，或者含1层或2层以上的所述单层膜的层叠膜的蚀刻组合物，其中，包含唑、硝酸、过氧化物和水溶性有机溶剂。
基本信息
专利标题 ：
单层膜或层叠膜的蚀刻组合物或者使用所述组合物的蚀刻方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN107304476A
申请号 ：
CN201710262809.5
公开（公告）日 ：
2017-10-31
申请日 ：
2017-04-20
授权号 ：
CN107304476B
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
高桥秀树
申请人 ：
关东化学株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
上海一平知识产权代理有限公司
代理人 ：
崔佳佳
优先权 ：
CN201710262809.5
主分类号 ：
C23F1/18
IPC分类号 ：
C23F1/18 C23F1/26 C23F1/28
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23F
非机械方法去除表面上的金属材料；金属材料的缓蚀；一般防积垢；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法的多步法金属材料表面处理
C23F1/00
金属材料的化学法蚀刻
C23F1/10
蚀刻用组合物
C23F1/14
含水组合物
C23F1/16
酸性组合物
C23F1/18
蚀刻铜或铜合金用的
法律状态
2022-04-01 ：
授权
2019-04-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23F 1/18
申请日 : 20170420
申请日 : 20170420
2017-10-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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