蚀刻液组合物
授权
摘要
本发明提供不含有醋酸、没有刺激气味、性能变化小，可以在半导体装置和平板显示装置等电子装置的制造工序中使用的各种金属薄膜和金属氧化物薄膜的蚀刻液组合物。该蚀刻液组合物含有磷酸、硝酸、甲氧基醋酸和水。
基本信息
专利标题 ：
蚀刻液组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101033549A
申请号 ：
CN200610054744.7
公开（公告）日 ：
2007-09-12
申请日 ：
2006-03-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黑岩健次加藤胜
申请人 ：
关东化学株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
陈建全
优先权 ：
CN200610054744.7
主分类号 ：
C23F1/16
IPC分类号 ：
C23F1/16 C23F1/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23F
非机械方法去除表面上的金属材料；金属材料的缓蚀；一般防积垢；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法的多步法金属材料表面处理
C23F1/00
金属材料的化学法蚀刻
C23F1/10
蚀刻用组合物
C23F1/14
含水组合物
C23F1/16
酸性组合物
法律状态
2009-09-23 ：
授权
2008-04-30 ：
实质审查的生效
2007-09-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN100543188C.PDF
PDF下载
2、
CN101033549A.PDF
PDF下载
