用于去除蚀刻残留物的组合物及其使用方法和用途
公开
摘要
一种用于微电子器件或半导体衬底的方法和清洁组合物，其包括至少一种烷醇胺；至少一种羟胺或羟胺衍生物或其混合物；至少一种具有至少两个羧酸基团的多官能有机酸和水。该清洁组合物可进一步包括至少一种腐蚀抑制剂。
基本信息
专利标题 ：
用于去除蚀刻残留物的组合物及其使用方法和用途
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114450388A
申请号 ：
CN202080067656.9
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-09-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
孙来生王莉莉吴爱萍李翊嘉陈天牛
申请人 ：
弗萨姆材料美国有限责任公司
申请人地址 ：
美国亚利桑那州
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
吴亦华
优先权 ：
CN202080067656.9
主分类号 ：
C11D11/00
IPC分类号 ：
C11D11/00 C11D7/26 C11D7/32 C11D7/34 C11D7/60 C23F11/12 G03F7/42 H01L21/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛
C11D
洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
C11D11/00
制备含洗涤剂混合物之组合物的特殊方法
法律状态
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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