一种连续镀膜生产线用的基片架回转驱动装置
公开
摘要
本发明提供一种连续镀膜生产线用的基片架回转驱动装置，包括回转架、设于回转架侧部且用于驱动基片架本体送入或送出真空回转室的传送组件以及设于回转架的底部且用于驱动回转架转动180°的转动驱动件，转动驱动件包括固设于真空回转室底部的定子和可转动地设于定子内的转子，定子与真空回转室之间设有密封件，转子与定子之间设有用于填充磁流体的磁流体密封腔。将镀膜生产线从中间“翻折”180°，从而将镀膜生产线的长度缩短一半，另外转动驱动件能在真空回转室外的大气环境中正常运行，在填充于磁流体密封腔内的磁流体和密封件的密封作用下可保证真空回转室不会在转动驱动件的位置处发生漏气，保证了驱动平稳性的同时保证了气密性。
基本信息
专利标题 ：
一种连续镀膜生产线用的基片架回转驱动装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114427083A
申请号 ：
CN202111490062.1
公开（公告）日 ：
2022-05-03
申请日 ：
2021-12-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
高文波李小彭彭友前姜翠宁
申请人 ：
洛阳生波尔真空装备有限公司
申请人地址 ：
河南省洛阳市新安县洛新产业集聚区广深路3号
代理机构 ：
中山卓融知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
彭国军
优先权 ：
CN202111490062.1
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-05-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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