一种塑料表面低温真空离子镀的镀膜方法
实质审查的生效
摘要
本发明属于表面科学与工程技术领域，具体公开了一种塑料表面低温真空离子镀的镀膜方法，包括：步骤(1)、采用霍尔离子源，进行塑料工件表面离子束溅射清洗、活化；步骤(2)、采用真空磁过滤阴极电弧源，进行塑料工件表面低温真空离子镀；步骤(3)、对工件进行后期加工。本发明采用真空磁过滤阴极电弧源引出高能量低流密度的高纯离子流，实现了纯物理方法全真空环境下，不耐温塑料表面75℃以下超低温金属涂层沉积，有效控制了塑料表面的温升，防止工件软化、变形和抑制杂质气体释放，避免了高温大熔滴对塑料工件的烧蚀损伤，塑料表面制备的金属膜结合力和覆盖率优异。
基本信息
专利标题 ：
一种塑料表面低温真空离子镀的镀膜方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114369798A
申请号 ：
CN202111526503.9
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2021-12-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈美艳刘旋唐德礼崔西蓉钟利许泽金
申请人 ：
核工业西南物理研究院;中核同创（成都）科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市双流西南航空港黄荆路5号
代理机构 ：
核工业专利中心
代理人 ：
陈丽丽
优先权 ：
CN202111526503.9
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32 C23C14/20 C23C14/02 C23C14/58
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/32
申请日 : 20211214
申请日 : 20211214
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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