一种基于DMD的光刻机图形拼接误差的检测与修正方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种基于DMD的光刻机图形拼接误差的检测与修正方法,包括线路图形设计;拼接重叠区域设定;拼接图形设计;线路图形曝光显影;拼接图形曝光显影;重合线条判断;DMD偏移位置判断;DMD位置补偿;上述检测与修正方法,将基准图形和偏移图形分别利用基准DMD和非基准DMD在透明片上的拼接重叠区域内进行曝光,判断非基准DMD曝光的偏移图形与基准DMD曝光的基准图形的重合线条,根据重合线条判断非基准DMD与基准DMD的位置是否有偏移,有偏移则根据线条预设间距值调整非基准DMD的位置,可节省测量时间,提高了检测效率,同时避免受测量仪器的误差影响,以及图形拼接误差测量不精准带来的干扰。

基本信息
专利标题 :
一种基于DMD的光刻机图形拼接误差的检测与修正方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114488704A
申请号 :
CN202111532272.2
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2021-12-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
廉治华谢军刘敏樊廷慧程卫涛
申请人 :
惠州市金百泽电路科技有限公司;西安金百泽电路科技有限公司
申请人地址 :
广东省惠州市大亚湾区响水河龙山六路
代理机构 :
深圳市千纳专利代理有限公司
代理人 :
袁燕清
优先权 :
CN202111532272.2
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20211215
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332