光测量装置、方法及光声膜厚测量系统
公开
摘要

本发明提出了一种光测量装置、方法及光声膜厚测量装置,装置包括:至少一个泵浦光源,以一定角度发射激励源光束;光束偏振态调控模块,用于将所述激励源光束调控为非线性偏振状态光束,以使待测对象接收所述非线性偏振状态光束的表面产生至少一形变区域;所述形变区域对应所述非线性偏振状态获得形变幅度增强,所述形变幅度增强为所述形变区域的表面平均梯度增大。采用不同偏振态泵浦激光可以在探测表面产生形变量大的鼓包以提高探测灵敏度以及提高信噪比,其中形变量更大,探测光所携带的反射信息中关于角度和光程对应的时间信息都能够获得放大,从而提高探测灵敏度和信噪比。

基本信息
专利标题 :
光测量装置、方法及光声膜厚测量系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114295064A
申请号 :
CN202111557191.8
公开(公告)日 :
2022-04-08
申请日 :
2021-12-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
唐岳董诗浩李仲禹
申请人 :
上海精测半导体技术有限公司
申请人地址 :
上海市青浦区徐泾镇双浜路269、299号1幢1、3层
代理机构 :
武汉东喻专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张英
优先权 :
CN202111557191.8
主分类号 :
G01B11/06
IPC分类号 :
G01B11/06  G01B17/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
G01B11/06
用于计量厚度
法律状态
2022-04-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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