本发明提供了一种应用于半导体领域的光学特性的建模方法、光声测量方法及装置，所述光声测量方法包括：根据本申请中所述的光学特性的建模方法创建光谱库；获取所述待测样品的测量光谱信号以获取所述待测样品的反射率变化信号，即实测信号；将所述实测信号与所述光谱库中的仿真信号进行拟合，得到拟合差值最小的所述仿真信号所对应的参数，以获取所述待测样品的膜厚值。本发明通过将所述实测信号与所述仿真信号进行拟合，得到拟合差值最小的所述仿真信号所对应的参数，以获取所述测量光谱信号所对应的膜的膜厚值，可以提高待测晶圆表面设置的膜的膜厚计算的精确度。