一种X射线曝光校准方法、图像校准装置及X射线机
公开
摘要
本申请提供一种X射线曝光校准方法、图像校准装置及X射线机，涉及图像处理领域，尤其涉及一种X射线曝光校准方法、图像校准装置及X射线机。本申请通过在传感器的扫描区域内设置校准区域和成像区域，并依此计算出成像区域中每一像素行的校准灰度值来对成像区域中的图像进行校正，可消除工频X射线机在曝光下进行连续图像采集时由于曝光剂量波动产生的横纹，从而提高图像质量，降低设备更新的成本，有效提高经济效益。
基本信息
专利标题 ：
一种X射线曝光校准方法、图像校准装置及X射线机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114422655A
申请号 ：
CN202111562547.7
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2021-12-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
许馨康宏伟
申请人 ：
上海昊博影像科技有限公司
申请人地址 ：
上海市闵行区新骏环路760号1号楼701室
代理机构 ：
广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
胡荣
优先权 ：
CN202111562547.7
主分类号 ：
H04N5/202
IPC分类号 ：
H04N5/202 H04N5/213 H04N5/217 H04N5/32
法律状态
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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