一种基于光镊与电场力测量光场强度分布的装置及方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种基于光镊与电场力测量光场强度分布的装置及方法。本发明利用光镊悬浮纳米微粒,将微粒置于待测光场中,对其施加电场,标定纳米微粒参数,并通过调控不同电场力大小得到纳米微粒偏离光镊光阱中心位移的关系。由于纳米微粒尺寸远小于待测光场的波长,因此其置于待测光场时发生瑞利散射,其散射光光强与纳米微粒所在待测光场位置的光场强度成正比,利用光电探测器采集纳米微粒的散射光信号,通过计算得到该位置的光场强度,施加不同方向和大小的电场力改变纳米微粒在待测光场中的位置,采集不同位置的散射光信号,即可实现光场强度分布的测量。本发明的测量装置及方法能够提供更高的空间分辨率和测量精度。

基本信息
专利标题 :
一种基于光镊与电场力测量光场强度分布的装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114414043A
申请号 :
CN202111590873.9
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
朱绍冲王颖颖高晓文陈杏藩胡慧珠
申请人 :
之江实验室
申请人地址 :
浙江省杭州市余杭区文一西路1818号人工智能小镇10号楼
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
万尾甜
优先权 :
CN202111590873.9
主分类号 :
G01J1/42
IPC分类号 :
G01J1/42  G01J1/02  G21K1/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分,偏振、相位或脉冲特性的测量;比色法;辐射高温测定法
G01J1/00
光度测定法,例如照相的曝光表
G01J1/42
采用电辐射检测器
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 1/42
申请日 : 20211223
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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