一种测量辐射光场三维分布的装置
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要
本实用新型涉及一种测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：装置的组成包括钻孔半球壳1、光纤2、钻孔圆盘3、可调光阑6、透镜5和CCD相机4；可调光阑6位于装置底部，钻孔半球壳1位于可调光阑6上，钻孔圆盘3位于钻孔半球壳1之上，二者之间通过若干光纤连接，透镜5位于圆盘3之上，CCD相机4位于透镜5之上。有益效果在于采用光纤和面阵CCD相机可以快速地测量光源辐射光场空间分布。CCD相机曝光时间可调，能够对多个不同强度量级的反射分布进行准确测量。整个装置集电源、光源、测试光路、调节、存储和控制单元于一个紧凑的整体，方便实时在线测量及野外测量。
基本信息
专利标题 ：
一种测量辐射光场三维分布的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820028166.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-01-22
授权号 ：
CN201149525Y
授权日 ：
2008-11-12
发明人 ：
赵建林任驹
申请人 ：
西北工业大学
申请人地址 ：
710072陕西省西安市友谊西路127号
代理机构 ：
西北工业大学专利中心
代理人 ：
王鲜凯
优先权 ：
CN200820028166.4
主分类号 ：
G01J1/00
IPC分类号 ：
G01J1/00 G01J1/04 G02B6/32 G02B5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J1/00
光度测定法，例如照相的曝光表
法律状态
2010-03-03 ：
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2008122
2008-11-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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