光谱辐射计视场响应非均匀性标定方法
实质审查的生效
摘要
本发明一种光谱辐射计视场响应非均匀性的标定方法属于光谱辐射测试设备技术领域，一种光谱辐射计视场响应非均匀性的标定方法包括设置第一黑体、采集第一黑体的电压响应值、求取光谱辐射计的响应函数、设置第二黑体、采集第二黑体的光谱辐射亮度、求取视场响应非均匀性修正系数、光谱辐射强度修正的步骤。非均匀性修正时不受目标辐射源的影响，所述标定方法适用范围广、适用程度强，处理方法简便，在得到非均匀性修正曲线后，无需知道目标辐射源的理论辐射强度，便可对目标辐射源进行标定修正，有利于外场实际测试的应用，提高了光谱辐射计的测量精度。
基本信息
专利标题 ：
光谱辐射计视场响应非均匀性标定方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114459616A
申请号 ：
CN202111605673.6
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2021-12-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李益文焦朝强陈戈李瑶化为卓柴世杰李玉琴王超哲张浦幼森
申请人 ：
中国人民解放军空军工程大学
申请人地址 ：
陕西省西安市霸桥区长乐东路甲字1号
代理机构 ：
西北工业大学专利中心
代理人 ：
康进兴
优先权 ：
CN202111605673.6
主分类号 ：
G01J5/53
IPC分类号 ：
G01J5/53 G01J5/90 G01J3/28
法律状态
2022-05-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 5/53
申请日 : 20211225
申请日 : 20211225
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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