一种高亮度镀铟薄膜及其镀膜工艺
公开
摘要
本发明公开了一种高亮度镀铟薄膜及其镀膜工艺，包括依次设于膜片上的打底层、介质膜层、铟层及第一保护层；所述打底层采用Si材料或ZRO2材料，用于防止膜层脱落，提高膜层附着力满足产品环测要求；所述介质膜层采用高折射率材料和低折射率材料交替循环叠加，作用在于与铟层一起提高整个膜层反射率，实现更高的亮度；所述铟层采用纯铟膜层；第一保护层采用高折射率材料，用于保护铟层，防止铟层被氧化和刮伤。与传统的镀制纯铟相比，本发明增加介质膜层，增加铟两侧Si保护层，膜层亮度更高，色度值L可以达到88‑95，膜层颜色可调控，阻抗可以满足≥4000MΩ，该薄膜及镀膜工艺适用于磁控溅射镀膜机、连续式溅射镀膜机。
基本信息
专利标题 ：
一种高亮度镀铟薄膜及其镀膜工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114509834A
申请号 ：
CN202111618825.6
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2021-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李智超毕文江孙波徐光科赵振辉冯志宏
申请人 ：
河南镀邦光电股份有限公司
申请人地址 ：
河南省南阳市高新区光电产业园区(信臣路)
代理机构 ：
北京隆达恒晟知识产权代理有限公司
代理人 ：
庄振乾
优先权 ：
CN202111618825.6
主分类号 ：
G02B5/08
IPC分类号 ：
G02B5/08 C23C14/02 C23C14/06 C23C14/08 C23C14/18 C23C14/34
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/08
反射镜
法律状态
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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