一种CMP垫的金属微粒缺陷的检测装置及方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供了一种CMP垫的金属微粒缺陷的检测装置及方法,属于CMP垫内部缺陷的检测领域,方法包括:对CMP垫进行背向照明,使用机器视觉成像系统对CMP垫进行扫描成像;对扫描图像进行灰度值的底帽变换;对传统OSTU法获取预设前景灰度百分比进行改造,计算灰度阈值;对预处理后的扫描图像进行自动阈值分割;将分割完成之后的区域进行连通;将连通域中存在缺陷的特征区域进行图像坐标提取;采用张正友角点标定法,对机器视觉系统图像坐标系与X射线成像系统的图像坐标系进行坐标转换获取X射线成像的图像坐标;采用X射线成像方法,对金属微粒缺陷成像核实。本发明检测范围、检测精度和检测效率均得到了极大的提升。

基本信息
专利标题 :
一种CMP垫的金属微粒缺陷的检测装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114354649A
申请号 :
CN202111634362.2
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2021-12-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
郭文平王锦杨克成夏珉李微
申请人 :
华中科技大学
申请人地址 :
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 :
武汉华之喻知识产权代理有限公司
代理人 :
李君
优先权 :
CN202111634362.2
主分类号 :
G01N21/95
IPC分类号 :
G01N21/95  G01N21/88  G01N23/04  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/95
特征在于待测物品的材料或形状
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/95
申请日 : 20211229
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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