一种角度可调范德华异质结及电极制备的装置
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种角度可调范德华异质结及电极制备的装置,包括三维夹持臂模块、凸形旋转台模块、样品电极掩膜模块,所述样品电极掩膜模块固定在三维夹持臂模块,所述凸形旋转台模块设置在样品电极掩膜模块的正下方,所述凸形旋转台模块包括从下到上依次设置的旋转台、凸型垫块以及弹性泡棉胶,所述旋转台固定在显微镜的载物台上方,所述凸型垫块固定在旋转台上方,所述弹性泡棉胶固定在凸型垫块上方。本发明通过三维夹持臂模块实现样品电极掩膜模块上样品的三维空间移动,通过旋转旋转台以实现样品之间相对角度的调节,通过弹性泡棉胶实现目标衬底的固定、对准接触过程出现的位移补偿,实现高产率、低污染的角度可调的范德华异质结及电极的制备。

基本信息
专利标题 :
一种角度可调范德华异质结及电极制备的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114415474A
申请号 :
CN202111638886.9
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2021-12-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李元元王天杰张璐张楚浩芮婷常建华
申请人 :
南京信息工程大学
申请人地址 :
江苏省南京市江北新区宁六路219号
代理机构 :
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 :
罗运红
优先权 :
CN202111638886.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20211229
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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