一种边射型激光元件
实质审查的生效
摘要
本公开提供了一种边射型激光元件，包括：基底、n型缓冲层、第一n型披覆层、光栅层、间隔层、下光局限单元、主动层、上光局限单元、p型披覆层、穿隧接面层及第二n型披覆层，穿隧接面层具有阻绝蚀刻过程的继续以将第二n型披覆层成形出预定脊状构造态样的功效。利用穿隧接面层使得一部分的p型披覆层转置成n型披覆层后将EEL元件的串联电阻降低，并使得光场与主动层耦合更趋向在主动层的中间位置以使得主动层的下半部也能够被有效的运用，以及使得光场与该光栅层相距较近，光场/光栅的耦光效率较佳，进而降低临界电流值。
基本信息
专利标题 ：
一种边射型激光元件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114361935A
申请号 ：
CN202111662184.4
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
欧政宜林志远纪政孝
申请人 ：
兆劲科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学园区苗栗县竹南镇科研路50-8号2楼
代理机构 ：
深圳市中科云策知识产权代理有限公司
代理人 ：
章明美
优先权 ：
CN202111662184.4
主分类号 ：
H01S5/028
IPC分类号 ：
H01S5/028
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01S 5/028
申请日 : 20211230
申请日 : 20211230
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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