一种垂直共振腔面射激光元件
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种垂直共振腔面射激光元件，包括依序堆栈的：基底、穿隧接面层、第一镜层、主动层、氧化层及第二镜层，所述第一镜层是p型分布式布拉格反射镜层，所述第二镜层是n型分布式布拉格反射镜层，利用穿隧接面层使得垂直共振腔面射激光元件可以将氧化层上方的P‑DBR转置成N‑DBR，使得主动层温度降低，而且光场趋近在主动层的量子井结构的中间位置耦合发光，使得发光总能量能够随着电流的提高而有效地增加。
基本信息
专利标题 ：
一种垂直共振腔面射激光元件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114361942A
申请号 ：
CN202111662019.9
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林志远欧政宜纪政孝
申请人 ：
兆劲科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学园区苗栗县竹南镇科研路50-8号2楼
代理机构 ：
深圳市中科云策知识产权代理有限公司
代理人 ：
章明美
优先权 ：
CN202111662019.9
主分类号 ：
H01S5/183
IPC分类号 ：
H01S5/183
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01S 5/183
申请日 : 20211230
申请日 : 20211230
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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