垂直腔面发射激光器
授权
摘要
公开一种垂直腔面发射激光器。根据本公开的垂直腔面发射激光器包括：下部镜；上部镜；活性层，设置在所述下部镜和所述上部镜之间；孔形成层，设置在所述上部镜和所述活性层之间，并且具有氧化层和被所述氧化层围绕的窗口层；环形的沟槽，贯通所述上部镜、所述孔形成层以及所述活性层而在内部限定隔绝区域；以及多个氧化孔，布置在被所述沟槽围绕的隔绝区域内，并且贯通所述上部镜和所述孔形成层。
基本信息
专利标题 ：
垂直腔面发射激光器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020214736.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-26
授权号 ：
CN211295696U
授权日 ：
2020-08-18
发明人 ：
李基煌俞炳秀卢正来
申请人 ：
首尔伟傲世有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道安山市
代理机构 ：
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人 ：
姜长星
优先权 ：
CN202020214736.X
主分类号 ：
H01S5/187
IPC分类号 ：
H01S5/187 H01S5/022 H01S5/40
法律状态
2020-08-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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