垂直共振腔面射型镭射磊晶结构
授权
摘要
本实用新型提供的垂直共振腔面射型镭射磊晶结构包括一核心发光层；该核心发光层包括相互层叠的一主动发光层和一穿隧二极体层；该主动发光层包括一多重量子井空间层设置于一P型空间层和一N型空间层之间；该穿隧二极体层包括相互层叠的一加强P型层和一加强N型层；该核心发光层设置于一第一布拉格反射镜层和一第二布拉格反射镜层之间，而该第一布拉格反射镜层和该第二布拉格反射镜层各为一N型布拉格反射镜层；一金属接触层设置于该第一布拉格反射镜层背离该核心发光层的一侧；一基板层设置于该第二布拉格反射镜层背离该核心发光层的一侧；本实用新型能提高产生一镭射光的光强度和能量转换效率。
基本信息
专利标题 ：
垂直共振腔面射型镭射磊晶结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122578923.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-26
授权号 ：
CN216214799U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
洪崇瑜林昱成
申请人 ：
先发电光股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾苗栗县
代理机构 ：
北京寰华知识产权代理有限公司
代理人 ：
何尤玉
优先权 ：
CN202122578923.3
主分类号 ：
H01S5/183
IPC分类号 ：
H01S5/183
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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