本发明公开一种冶炼真空炉的真空进料结构，涉及真空冶炼炉技术领域，包括进料箱，进料箱的底端与真空炉相连接，所述进料箱的侧面安装有真空结构，所述进料箱内部的顶端固定连接有固定架，所述固定架的内部安装有贯穿进料箱的原料密封箱，所述固定架的上表面固定连接有电磁吸附结构，所述进料箱内部靠近原料密封箱的底端安装有粉碎结构，所述原料密封箱的下表面滑动连接有遮挡板。本发明中进料箱的底端与真空炉的相连接，并且进料箱的顶端安装有原料密封箱，并且通过真空结构，可以降低进料箱内部的空气含量，从而可以降低进料箱内部原料被氧化的速率和数量。