一种前驱体涂布激光制备氮化钽膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种前驱体涂布激光制备氮化钽膜装置,包括底座、喷笔和激光镜头模块,所述的喷笔和激光镜头模块设置在底座上。本实用新型通过激光镜头模块对基础材料表前驱体涂布激光制备氮化钽膜装置,其包括底座、喷笔和激光镜头模块,所述的喷笔和激光镜面进行照射使之表面温度升高,喷笔中通过高压载体气体将液态涂料雾化并预先混合成反应前驱体,反应前驱体自出料孔喷射到加热后的基础材料表面反应形成氮化钽。本实用新型可在大气下工作,对环境要求低,成膜质量高;克服了现有工艺对成膜设备以及严苛环境的依赖,使得氮化钽成膜工艺变成一种简易的喷涂工艺,极大地降低了设备成本,而且便于操作实施。
基本信息
专利标题 :
一种前驱体涂布激光制备氮化钽膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202120684390.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-04-02
授权号 :
CN216663231U
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
蔡志隆刘崇志
申请人 :
泰杋科技股份有限公司;北京利宝生科技有限公司
申请人地址 :
中国台湾新竹县竹北市光明六路东1段251号9楼
代理机构 :
厦门市新华专利商标代理有限公司
代理人 :
罗恒兰
优先权 :
CN202120684390.4
主分类号 :
C23C16/48
IPC分类号 :
C23C16/48 C23C16/34 C23C16/448
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/48
辐射法,例如光分解、辐射分解、粒子辐射
法律状态
2022-06-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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