一种半导体生产用新型废水处理装置
授权
摘要
本实用新型涉及半导体生产领域,且公开了一种半导体生产用新型废水处理装置,包括废水处理装置本体,废水处理装置本体的上端内表面设置有第一过滤网,废水处理装置本体的右侧外表面固定连接有L型安装板,L型安装板的上端内表面活动连接有矩形限位块,矩形限位块的上端外表面固定连接有矩形安装框。本实用新型所述的一种半导体生产用新型废水处理装置,区别于传统的废水处理装置,该装置可以通过物理的方式将废水中的固体杂质过滤出来,方便后期进行处理,将固体杂质过滤出来后,可以对固体杂质进行挤压脱水,从而减轻固体杂质的重量,减轻了人工处理时的工作负担,提升了该废水处理装置的实用性。
基本信息
专利标题 :
一种半导体生产用新型废水处理装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202121780777.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-08-02
授权号 :
CN216223210U
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
张宇航
申请人 :
张宇航
申请人地址 :
辽宁省沈阳市皇姑区怒江街184-14号4-5-2
代理机构 :
北京化育知识产权代理有限公司
代理人 :
尹均利
优先权 :
CN202121780777.6
主分类号 :
B01D29/58
IPC分类号 :
B01D29/58 B01D29/03 B01D29/96
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D29/00
不包括在组B01D24/00至B01D27/00中的过滤期间过滤元件不动的过滤器,例如压滤器或吸滤器;其过滤元件
B01D29/50
带有以相互布置为特征的多个过滤元件的
B01D29/56
串联连接的
B01D29/58
同心或同轴的
法律状态
2022-04-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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