半导体衬底晶片生产废水处理系统
授权
摘要

本实用新型公开了半导体衬底晶片生产废水处理系统,包括支架,两个支架之间固定安装有中和箱和排液斗,中和箱的上表面右侧固定安装有进液管,中和箱的下端固定安装有电磁阀,中和箱的下表面左侧固定安装有驱动装置,驱动装置的右侧安装有过滤装置,过滤装置位于排液斗的上侧,过滤装置包括安装在驱动装置内侧的支撑筒,支撑筒的内部下端固定安装有过滤网,过滤网为半球形结构,过滤网的下端固定安装有振动器,支撑筒和过滤网的内侧紧密贴合有复合过滤袋,复合过滤袋的开口位于电磁阀的下侧。本装置能够在中和废水后,对合格水中掺杂或产生的杂质进行过滤分离,以便无害化处理,使排放的水更安全环保。

基本信息
专利标题 :
半导体衬底晶片生产废水处理系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022073617.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-21
授权号 :
CN213266067U
授权日 :
2021-05-25
发明人 :
段昊楠孔令帅张连忠林琛雨陈彦涛
申请人 :
青岛世宇环境工程有限公司
申请人地址 :
山东省青岛市崂山区苗岭路19号(裕龙大厦1-1-1702)
代理机构 :
山东重诺律师事务所
代理人 :
王鹏里
优先权 :
CN202022073617.X
主分类号 :
C02F9/04
IPC分类号 :
C02F9/04  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/04
至少有一个化学处理步骤
法律状态
2021-05-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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