用于晶片或衬底的UV处理的装置
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及一种使用UV光对物体即晶片或衬底进行UV处理的装置，其包括UV光源(3)，所述UV光源包括多个LED(11)和热沉(12)。所述LED发射UV光或者含有UV光的光。所述热沉用于将由所述LED产生的废热散发到周围环境中。
基本信息
专利标题 ：
用于晶片或衬底的UV处理的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820115092.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-05-15
授权号 ：
CN201298538Y
授权日 ：
2009-08-26
发明人 ：
鲁迪·波特曼
申请人 ：
波瓦泰克有限公司
申请人地址 ：
瑞士胡嫩贝格
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
张 文
优先权 ：
CN200820115092.8
主分类号 ：
H01L21/00
IPC分类号 ：
H01L21/00
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2012-07-11 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101288712524
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2008201150928
申请日 : 20080515
授权公告日 : 20090826
终止日期 : 20110515
号牌文件序号 : 101288712524
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2008201150928
申请日 : 20080515
授权公告日 : 20090826
终止日期 : 20110515
2009-08-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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