衬底处理装置及衬底处理方法
公开
摘要
本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明是对衬底进行特定处理的衬底处理装置，所述装置包含以下要素。保持机构具备：多个支撑销，跨及保持位置与交接位置之间而旋动；第1磁力部，通过切换周围的磁极来使所述各支撑销旋动到所述保持位置及所述交接位置；以及第2磁力部，始终对所述第1磁力部赋予磁场，使所述各支撑销旋动到所述保持位置；切换机构在正常情况下，不对所述第1磁力部赋予第3磁力部的磁场，只有在衬底交接时，才对所述第1磁力部赋予所述第3磁力部的磁场，使得所述各支撑销旋动到所述交接位置。
基本信息
专利标题 ：
衬底处理装置及衬底处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114582783A
申请号 ：
CN202111442998.7
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2021-11-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
藤内裕史
申请人 ：
株式会社斯库林集团
申请人地址 ：
日本京都
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
陈甜甜
优先权 ：
CN202111442998.7
主分类号 ：
H01L21/687
IPC分类号 ：
H01L21/687 H01L21/67 H01L21/677
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
H01L21/687
使用机械装置的，例如卡盘、夹具或夹子
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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