衬底处理装置具有腔室、大致线性的处理模块阵列、衬底输送装置和驱动系统。所述腔室能够与外部气氛隔离开。各个处理模块阵列可连通地连接在腔室上，以容许在腔室和处理模块之间传递衬底。衬底输送装置定位在腔室中，并可移动地受到腔室的支撑。输送装置能够沿着由腔室限定的线性路径移动，用于在处理模块之间输送衬底。驱动系统连接在所述腔室上，用于驱动输送装置，并使其沿着所述线性路径移动。腔室包括可选数量的腔室模块，其顺序地对接在一起，以便限定腔室。各模块具有驱动系统的组成部分。