衬底处理方法、曝光装置及器件制造方法

专利权的终止

摘要

本发明提供一种衬底处理方法，该方法包括：在衬底上形成第一液体的浸液区域，并借助第一液体向衬底上照射曝光用光而将衬底曝光的曝光工序(S7)；在曝光工序之前将衬底浸渍于第二液体中的浸渍工序(S3)。根据本发明，可以抑制由伴随着浸液曝光产生的附着痕迹造成的不良状况的发生。

基本信息

专利标题：

衬底处理方法、曝光装置及器件制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101866113A

申请号：

CN201010140711.0

公开（公告）日：

2010-10-20

申请日：

2005-10-25

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

中野胜志奥村正彦杉原太郎水谷刚之藤原朋春

申请人：

株式会社尼康

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

经志强

优先权：

CN201010140711.0

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G03F7/00

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2020-10-13 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20051025
授权公告日 : 20130424
终止日期 : 20191025

2013-04-24 ：

授权

2010-12-01 ：

实质审查的生效

号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101020710836
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2010101407110
申请日 : 20051025

2010-10-20 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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